準分子激光氣體
準分子激光預混氣
工業技術的升級轉型需要平衡日益增長的性能需求與加工速度及制造成本之間的矛盾。準分子激光的誕生，以其高光子能量所稱著，在對突破材料限制需求越來越迫切的時代，準分子激光器再次站在了尖端工業激光解決方案的最前沿。作為當今最有效、最可靠的脈沖紫外激光技術的代表，準分子激光器有效地推進了諸如半導體、AMOLED平板顯示、薄膜、硅底板加工、有機金屬沉淀、高溫超導、刻蝕、材料研究、汽車制造、生物醫療、光纖、鉆石打標設備及可替代能源等多種成長型工業中的技術革新。準分子激光氣體是用于準分子激光設備中的激光發生器的關鍵氣體
具體的配比和包裝物和準分子激光設備的品牌和型號相關：
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品 牌 |
機 型 |
波 長 |
準分子激光氣體 |
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ATL |
ATL ARF-1 |
193 nm |
F2,Ar,Xe,Ne |
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ATL KRF-1 |
248 nm |
F2,Kr,Xe,Ne |
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TUI |
CTFTS-ARFV 2.2 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne |
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CTFTS-KRFV 2.1 |
248 nm |
F2,Kr,He,Ne |
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CTFTS-KRFV 2.2 |
248 nm |
F2,Kr,He,Xe,Ne |
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CTMD-ARFV 2.0 |
193 nm |
F2,Ar,He,O2,Ne |
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CTMD-XECLV 2.1 |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne |
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CTMN-ARFV 2.0 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne |
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CTMN-ARFV 2.1 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne |
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CTMN-KRFV 1.0 |
248 nm |
F2,Kr,He,Ne |
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CTMN-KRFV 2.0 |
248 nm |
F2,Kr,He,Ne |
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CTMN-XECLV 2.0 |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne |
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CTMN-XECLV 5.0 |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne |
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CTMN-XEFV 1.1 |
450nm~520nm |
F2,Xe,He,Ne |
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CTMN-XEFV 1.2 |
450nm~520nm |
F2,Xe,He,Ne |
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GAM Laser |
EX5 ArF |
193 nm |
F2,Ar,He,O2,Ne |
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EX5 KrF |
248 nm |
F2,Kr,He,Ne |
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EX5 XeCl |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne |
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EX10 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne |
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EX50 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne |
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EX100 |
193 nm |
F2,Ar,He,Ne |
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Photomedex |
XeCl |
308 nm |
HCl,Xe,Ne |
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Photoscribe |
ArF |
193 nm |
F2,Ar,Ne |
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KrF |
248 nm |
F2,Kr,Ne |
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PotomacPhotonics |
ArF |
193 nm |
F2,Ar,Ne |
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KrF |
248 nm |
F2,Kr,Ne |
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Spectranetics |
XeCl |
308 nm |
HCl,H2,Xe,Ne
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